[发明专利]基板处置装置和基板处置方法在审
| 申请号： | 201810659255.7 | 申请日： | 2018-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN109116688A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 崔海圆;崔基勋;姜基文;许瓒宁;A·科里阿金;李在晟 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王瑞朋;胡彬 |
| 地址： | 韩国忠清*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及基板处置装置和基板处置方法。基板处置装置包括第一处理室，其构造为向在基板上执行曝光处理之后被运送到第一处理室中的基板供给显影液，第二处理室，其构造为通过超临界流体处置基板，进给机械手，其构造为将基板从第一处理室递送到第二处理室；以及控制器，其构造为控制进给机械手，使得在由第一处理室供给的显影液驻留在基板上的状态下，基板被传送到第二处理室。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 第一处理室 处置装置 机械手 显影液 进给 超临界流体 基板供给 曝光处理 控制器 驻留 运送 | ||
【主权项】：
1.一种基板处置装置，包括：第一处理室，其构造为向基板供给显影液，其中，在所述基板上执行曝光处理之后所述基板被运送到所述第一处理室中，第二处理室，其构造为通过超临界流体处置所述基板；进给机械手，其构造为将所述基板从所述第一处理室传送到所述第二处理室；以及控制器，其构造为控制所述进给机械手，以使得在由所述第一处理室供给的显影液驻留在所述基板上的状态下，所述基板被传送到所述第二处理室。
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