[发明专利]一种新型碳化硅雪崩二极管阵列良率及击穿电压测试方法有效

专利信息
申请号: 201810662970.6 申请日: 2018-06-25
公开(公告)号: CN109031059B 公开(公告)日: 2021-01-19
发明(设计)人: 张衡;陆海;莫晓帆;周东;张用 申请(专利权)人: 南京大学;国网山东省电力公司电力科学研究院;国家电网有限公司
主分类号: G01R31/12 分类号: G01R31/12;G01R31/26
代理公司: 南京苏创专利代理事务所(普通合伙) 32273 代理人: 张学彪
地址: 210023 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种新型碳化硅雪崩二极管阵列良率及击穿电压测试方法,包括:随机选取新型碳化硅雪崩二极管阵列中两个以上的器件测试I‑V特性,得到击穿电压平均值Vb;取1.1Vb作为测试最高电压,对新型碳化硅雪崩二极管阵列中单个器件上加偏置电压,并逐渐增加偏压到测试最高电压;以电流大小分别为10‑7A和10‑6A作为击穿点和限流点,初步判断器件是否可用;在单个器件上加偏置电压,判断器件是否因高压测试而损坏。本发明减小了SiC基APD阵列测试周期,提高了测试SiC基APD击穿电压的精度,提高了阵列内器件工作的一致性,降低了测试对器件造成的损伤,提高了测试人员的安全性。
搜索关键词: 一种 新型 碳化硅 雪崩 二极管 阵列 击穿 电压 测试 方法
【主权项】:
1.一种新型碳化硅雪崩二极管阵列良率及击穿电压测试方法,其特征在于:包括如下步骤:1)随机选取新型碳化硅雪崩二极管阵列中两个以上的器件测试I‑V特性,分别得到每个被测器件的击穿电压,再计算得到击穿电压平均值Vb;2)取击穿电压平均值Vb的1.1倍作为测试最高电压,对新型碳化硅雪崩二极管阵列中单个器件上加偏置电压,并逐渐增加偏压到测试最高电压;3)以电流大小分别为10‑7A和10‑6A作为击穿点和限流点,在加压测试过程中电流达到10‑7A,此时达到击穿电压Vb;若在测试最高电压下仍未达到击穿电压对应的电流点10‑7A,则判断器件无法击穿,器件不可用,若在小于等于测试最高电压下达到击穿电压对应的电流点10‑7A,进入下一步测试;4)在单个器件上加0‑Vb不为零的偏置电压,若电流值小于限流值10‑6A,则器件正常可用;若电流值大于限流值10‑6A,则器件因高压测试而损坏,不可用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京大学;国网山东省电力公司电力科学研究院;国家电网有限公司,未经南京大学;国网山东省电力公司电力科学研究院;国家电网有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810662970.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top