[发明专利]可用于红外隐身的光谱选择性发射材料及其制备方法有效
| 申请号： | 201810663194.1 | 申请日： | 2018-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN108828695B | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 刘东青;彭亮;程海峰 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;B32B19/00;C23C14/35 |
| 代理公司： | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 | 代理人： | 钱朝辉 |
| 地址： | 410000 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可用于红外隐身的光谱选择性发射材料，所述光谱选择性发射材料为层状结构，所述层状结构包括衬底及交替叠加涂覆于所述衬底表面的金属层和红外透明介质层。本发明还相应提供一种上述光谱选择性发射材料的制备方法。本发明的光谱选择性发射材料，通过金属层和红外透明介质层的设计与优化，经理论分析及计算得知：在3.0μm～5.0μm和8.0μm～14.0μm红外窗口波段发射率分别可达0.20和0.25以下，在5.0μm～8.0μm非窗口波段发射率可达0.80以上，该光谱选择性发射材料实现了红外选择性发射，兼顾了低发射率与辐射散热的要求，对更好的实现红外隐身具有重要的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 红外 隐身 光谱 选择性 发射 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种可用于红外隐身的光谱选择性发射材料，其特征在于，所述光谱选择性发射材料为层状结构，所述层状结构包括衬底及交替叠加涂覆于所述衬底表面的金属层和红外透明介质层。
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