[发明专利]一种掩膜版及配向曝光方法

摘要

本发明公开了一种掩膜版，包括：平行设置的第一遮光板和第二遮光板以及固定第一遮光板和第二遮光板的控制平台，第一遮光板位于待配向基板的上方，第二遮光板位于第一遮光板的上方；控制平台带动第一遮光板和第二遮光板沿第一方向和第二方向同步运动，第一遮光板包括至少一个第一透光区，第一透光区包括沿第一方向等间距排列的多个第一透光单元所述第一透光单元的周围为第一遮光区，第二遮光板包括至少一个第二透光区，第二透光区包括沿第一方向等间距排列的多个第二透光单元，第二透光单元的周围为第二遮光区，第一方向和第二方向相互垂直，可以解决现有掩膜版叠加造成产品不良问题，同时可以降低成本，提升产品的质量。

主权项

1.一种掩膜版，包括：平行设置的第一遮光板和第二遮光板以及固定第一遮光板和第二遮光板的控制平台，第一遮光板位于待配向基板的上方，第二遮光板位于第一遮光板的上方；其特征在于：所述控制平台带动第一遮光板和第二遮光板沿第一方向和第二方向同步运动，所述第一遮光板包括至少一个第一透光区，所述第一透光区包括沿第一方向等间距排列的多个第一透光单元所述第一透光单元的周围为第一遮光区，所述第二遮光板包括至少一个第二透光区，所述第二透光区包括沿第一方向等间距排列的多个第二透光单元，所述第二透光单元的周围为第二遮光区，所述第一方向和第二方向相互垂直。