[发明专利]一种磁流变抛光设备的控制系统在审
申请号: | 201810670429.X | 申请日: | 2018-06-26 |
公开(公告)号: | CN108857590A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 戴斌;姜平;孙波;周根荣 | 申请(专利权)人: | 南通大学;江苏天一超细金属粉末有限公司 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B51/00 |
代理公司: | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 | 代理人: | 高之波;胡建锋 |
地址: | 226000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本申请公开了一种磁流变抛光设备的控制系统,包括第一驱动装置,能够驱动待抛光工件旋转;多个磁极,多个磁极沿直线排列设置,能够产生磁场;控制系统,所述控制系统能够控制每个所述磁极的磁场强度、以及控制所述第一驱动装置的转速;控制系统包括第一控制装置,第一控制装置包括第一控制器和变频器,第一控制器与变频器通信连接,变频器与第一驱动装置电连接。由此,抛光液容器内的抛光液在磁极下侧面形成磁流变抛光类固体,第一驱动装置驱动抛光液容器旋转,使得抛光液容器内的工件与磁流变抛光类固体之间进行抛光工作;且每个磁极均可以单独控制磁场强度,使得抛光更加均匀,提高抛光效率。 | ||
搜索关键词: | 磁极 控制系统 第一驱动装置 磁流变抛光 抛光液 变频器 磁场 控制装置 控制器 抛光 驱动 单独控制 抛光工件 抛光效率 通信连接 直线排列 电连接 下侧面 申请 | ||
【主权项】:
1.一种磁流变抛光设备的控制系统,其特征在于,包括:第一驱动装置(4),能够驱动待抛光工件旋转;多个磁极(51),多个所述磁极(51)沿直线排列设置,能够产生磁场;控制系统,所述控制系统能够控制每个所述磁极(51)的磁场强度、以及控制所述第一驱动装置(4)的转速;所述控制系统包括控制装置(6),所述控制装置(6)包括第一控制器(61)和变频器(62),所述第一控制器(61)与所述变频器(62)通信连接,所述变频器(62)与所述第一驱动装置(4)电连接。
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