[发明专利]一种表面覆膜的双面单晶硅片在审
申请号: | 201810670695.2 | 申请日: | 2018-06-26 |
公开(公告)号: | CN110718602A | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 陈春成;戚建静 | 申请(专利权)人: | 江苏晶品新能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/054 | 分类号: | H01L31/054;H01L31/048;H01L31/041 |
代理公司: | 11427 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 陈娟 |
地址: | 225600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了单晶硅片领域的一种表面覆膜的双面单晶硅片,包括连接板,相邻两组所述橡胶环之间设置有钢化玻璃,两组所述钢化玻璃的相邻面均设置有光学胶弹性层,两组所述光学胶弹性层的相邻面设置有硅片基体,所述钢化玻璃远离硅片基体的一侧设置有反射层,该装置通过半球形的凸块可以将光折射向硅片基体,增强光照强度,厚度为七十五纳米的氮化硅膜呈深蓝色,减少对光的反射,压花玻璃、低折射率介质膜和高折射率介质膜,将硅片基体反射的反射光再次反射向硅片基体上,提高了光电转换效率,橡胶环起到减震缓冲的作用,避免施加在连接板上的外力作用在钢化玻璃上,导致硅片基体受损,紫外线保护膜起到阻挡紫外线的作用。 | ||
搜索关键词: | 硅片基体 钢化玻璃 两组 反射 单晶硅片 弹性层 光学胶 连接板 相邻面 橡胶环 高折射率介质膜 减震 低折射率介质 光电转换效率 紫外线保护膜 表面覆膜 氮化硅膜 外力作用 压花玻璃 半球形 反射层 反射光 光折射 深蓝色 紫外线 缓冲 凸块 光照 施加 受损 阻挡 | ||
【主权项】:
1.一种表面覆膜的双面单晶硅片,包括连接板(1),其特征在于:所述连接板(1)的内腔壁上开设有放置槽(2),所述放置槽(2)的内腔均匀设置有三组橡胶环(3),且三组橡胶环(3)从上到下依次呈线性排列,相邻两组所述橡胶环(3)之间设置有钢化玻璃(4),两组所述钢化玻璃(4)的相邻面均设置有光学胶弹性层(5),两组所述光学胶弹性层(5)的相邻面设置有硅片基体(6),所述钢化玻璃(4)远离硅片基体(6)的一侧设置有反射层(7),所述反射层(7)远离硅片基体(6)的一侧设置有增透层(8)。/n
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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