[发明专利]一种手性偕二硅基烷烃化合物及其合成方法和应用

摘要

本发明公开了一种一种手性偕二硅基烷烃化合物，如式V所示，式V中，*代表手性碳原子。并公开了手性偕二硅基烷烃化合物的合成方法：惰性气体下，以式I所示的炔烃和式II所示的二氢硅烷、式III所示的三氢硅烷为原料，以Xantphos‑CoBr2和手性CoX2‑OIP络合物为催化剂，在还原剂存在下，反应制得式V所示的手性偕二硅基烷烃化合物。本发明方法反应条件温和，操作简便，原子经济性高。另外，反应无需其他任何的有毒过渡金属(如钌、铑、钯等)盐类的加入，在药物和材料合成上具有较大的实际应用价值。且反应的产率也较好，一般为50％～85％，对映体选择性也较高，一般为93％～99％。

主权项

1.一种手性偕二硅基烷烃化合物，如式V所示：式V中，*代表手性碳原子；R1任选自H、C1‑C16的烷基或C3‑C16的环烷基；所述烷基或环烷基上的H不被取代或被1个以上的取代基A取代，所述取代基A包括硝基、卤素、芳基A、杂环芳基A、邻苯二甲酰亚胺基、甲氧羰基、三氟甲基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C16的酯基、C1‑C16的硅烷基、C1‑C16的硅氧基、C1‑C16的烷氧基、苄氧基或酰胺基；所述芳基A包括苯基或萘基；所述杂环芳基A包括吲哚基、噻吩基、吡啶基、哌啶基、喹啉基或式X所示的基团；所述芳基A、杂环芳基A上的H不被取代或被1个以上的取代基B取代，所述取代基B包括C1～C3的烷基、C1～C3的烷氧基、卤素、三氟甲基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C3的酯基、苯基或酰胺基；R2，R3任选自芳基B或者杂环芳基B，其中芳基B如式VI或式VII所示：式VI中，R5、R6、R7、R8、R9任选自H、卤素、C1‑C16的烷基、C1‑C16的烷氧基、C1‑C16的烷硫基、苯基、三氟甲基、甲氧羰基、硝基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C16的酯基、C1‑C16的硅烷基、C1‑C16的硅氧基、苄氧基、酰胺基、乙酰氧甲基、2‑甲基‑1,3‑二氧环戊基中的任意一种；式VII中，R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16任选自H、卤素、C1‑C16的烷基、C1‑C16的烷氧基、C1‑C16的烷硫基、苯基、三氟甲基、甲氧羰基、硝基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C16的酯基、C1‑C16的硅烷基、C1‑C16的硅氧基、苄氧基、酰胺基、乙酰氧甲基、2‑甲基‑1,3‑二氧环戊基中的任意一种；所述杂环芳基B为吲哚基、噻吩基、吡啶基、哌啶基或喹啉基；R4任选自C1‑C16的烷基、C3‑C16的环烷基、芳基C或杂环芳基C；所述烷基、环烷基上的H不被取代或被1个以上的取代基C取代，所述取代基C包括硝基、卤素、邻苯二甲酰亚胺基、甲氧羰基、三氟甲基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C3的酯基或酰胺基；所述芳基C包括苯基或萘基；所述杂环芳基C包括吲哚基、噻吩基、吡啶基或喹啉基；所述芳基C或杂环芳基C上的H不被取代或被1个以上的取代基D取代，所述取代基D包括C1～C3的烷基、C1～C3的烷氧基、卤素、三氟甲基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C3的酯基、苯基或酰胺基。