[发明专利]射频脉冲匹配方法及其装置、脉冲等离子体产生系统

摘要

本发明属于半导体加工技术领域，具体涉及射频脉冲匹配方法、射频脉冲装置和脉冲等离子体产生系统。该射频脉冲匹配方法，包括S1)：预设匹配门限值，以及将脉冲计数值初始化为脉冲参考值；S2)：采集上电极射频电源的脉冲信号，并计算匹配参数；S3)：判断匹配参数与匹配门限值的大小，并根据匹配参数与匹配门限值的大小设置脉冲计数值；S4)：根据脉冲计数值与脉冲参考值的一致性，使得上匹配器对上电极射频电源进行匹配或下匹配器对下射频电源任一进行匹配；S5)：重复S3)和S4)，直至上电极射频电源和下射频电源均实现匹配。该射频脉冲匹配方法及其装置，具有较快的脉冲等离子体匹配速度，而且脉冲等离子体受两个电极的影响小，稳定性高。

主权项

1.一种射频脉冲匹配方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤S1)：预设匹配门限值，以及将脉冲计数值初始化为脉冲参考值；/n步骤S2)：采集上电极射频电源的脉冲信号，并计算匹配参数；/n步骤S3)：判断所述匹配参数与所述匹配门限值的大小，并根据所述匹配参数与所述匹配门限值的大小设置脉冲计数值；/n步骤S4)：根据所述脉冲计数值与所述脉冲参考值的一致性，使得上匹配器对所述上电极射频电源进行匹配或下匹配器对下射频电源任一进行匹配；/n步骤S5)：重复步骤S3)和步骤S4)，直至所述上电极射频电源和所述下射频电源均实现匹配。/n