[发明专利]一种显影液处理装置有效

专利信息
申请号: 201810679597.5 申请日: 2018-06-27
公开(公告)号: CN108828908B 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 贺妍;孙德瑞;刘丹 申请(专利权)人: 上海德迈世欧化工有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30
代理公司: 新余市渝星知识产权代理事务所(普通合伙) 36124 代理人: 张瑜生
地址: 201703 上海市青浦区公园东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种显影液处理装置,用于光刻工艺中,所述显影液处理装置包括:显影液喷头,所述显影液喷头由喷头主体、主进液口、辅助进液口、主液腔、辅助液腔、主喷出口,辅助喷出口组成;处理腔室,所述处理腔室为圆桶状,所述显影液喷头安装在处理腔室的顶部中心;晶圆基台,所述晶圆基台用于固定待显影的晶圆,所述晶圆基台能够带动晶圆旋转,所述基台的上表面与显影液喷头的下表面具有特征的距离;显影液存储装置,所述显影液存储装置用于显影液的存储;显影液回收装置,设置在晶圆基台的下方,回收显影液;本发的明显影液处理装置的喷头所喷出的显影液在处理腔室中均匀分布。
搜索关键词: 一种 显影液 处理 装置
【主权项】:
1.一种显影液处理装置,用于光刻工艺中,所述显影液处理装置包括:显影液喷头,所述显影液喷头由喷头主体、主进液口、辅助进液口、主液腔、辅助液腔、主喷出口,辅助喷出口组成;处理腔室,所述处理腔室为圆桶状,所述显影液喷头安装在处理腔室的顶部中心,所述处理腔室为密闭腔室,并且处理腔室能够控制腔室中的气氛;晶圆基台,所述晶圆基台用于固定待显影的晶圆,所述晶圆基台能够带动晶圆旋转,所述基台的上表面与显影液喷头的下表面具有特征的距离;显影液存储装置,所述显影液存储装置用于显影液的存储,所述显影液存储装置分别通过主进液口和辅助进液口将显影液输送到主液腔和辅助液腔;所述主进液口和辅助进液口设置有流量控制器,分别用于控制输送到主液腔和辅助液腔显影液的流量;显影液回收装置,设置在晶圆基台的下方,回收显影液;显影液过滤装置,用于过滤回收的显影液中的杂质,并将处理过显影液输送到显影液存储装置中;控制装置,所述控制装置用于控制存储装置注入主进液口和辅助进液口的流量,控制晶圆基台与显影液喷头的距离,圆基台的旋转速度。
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