[发明专利]Sn20有效

专利信息
申请号: 201810684530.0 申请日: 2018-06-28
公开(公告)号: CN109037439B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 胡益丰;郭璇;张锐;尤海鹏;朱小芹;邹华 申请(专利权)人: 江苏理工学院
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 刘娟娟
地址: 213001 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种Sn20Sb80/Si多层相变薄膜材料,其为多层复合膜结构,由Sn20Sb80层和Si层交替沉积复合而成,将一层Sn20Sb80层和一层Si层作为一个交替周期,后一个交替周期的Sn20Sb80层沉积在前一个交替周期的Si层上方;所述Sn20Sb80层是以Sn20Sb80靶材通过磁控溅射法得到,所述Si层是以Si靶材通过磁控溅射法得到;所述Sn20Sb80/Si多层相变薄膜材料的结构用通式[Sn20Sb80(a)/Si(b)]x表示,其中a为单层Sn20Sb80层的厚度,a=1nm~50nm;b为单层Si层的厚度,b=1nm~50nm,x为Sn20Sb80层和Si层的交替周期数,x为正整数。本发明提供的Sn20Sb80/Si多层相变薄膜材料能够改善现有存储器的热稳定性和操作功耗。
搜索关键词: sn base sub 20
【主权项】:
1.一种Sn20Sb80/Si多层相变薄膜材料,其特征在于,Sn20Sb80/Si多层相变薄膜材料为多层复合膜结构,由Sn20Sb80层和Si层交替沉积复合而成,将一层Sn20Sb80层和一层Si层作为一个交替周期,后一个交替周期的Sn20Sb80层沉积在前一个交替周期的Si层上方;所述Sn20Sb80层是以Sn20Sb80靶材通过磁控溅射法得到,所述Si层是以Si靶材通过磁控溅射法得到;所述Sn20Sb80/Si多层相变薄膜材料的结构用通式[Sn20Sb80(a)/Si(b)]x表示,其中a为单层Sn20Sb80层的厚度,a=1nm~50nm;b为单层Si层的厚度,b=1nm~50nm,x为Sn20Sb80层和Si层的交替周期数,x为正整数。
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