[发明专利]一种测定气相分子位点间距离的方法有效

专利信息
申请号: 201810688516.8 申请日: 2018-06-28
公开(公告)号: CN108956751B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 方向;贺木易;江游;黄泽建;戴新华;徐伟;龚晓云 申请(专利权)人: 中国计量科学研究院
主分类号: G01N27/64 分类号: G01N27/64
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 巴晓艳
地址: 100013 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种测定气相分子位点间距离的方法。该方法包括以下步骤:反应物正离子通过ESI正模式离子化,在LIT中采用全扫描模式检测正离子;反应物负离子通过ESI负模式离子化,在LIT中采用全扫描模式检测负离子;正、负离子选择性传输进入LIT进行反应,反应时间1‑1000ms,采用质量分析器检测反应产物,以此确定反应是否发生;再次进行反应,并选择共价修饰离子进行串级质谱分析,用于鉴别反应活性位点;计算获得底物能量最低构象,在此基础上测量出反应活性位点与互作位点之间距离,由此得出大分子的两位点间距。气相离子/离子反应方法反应速度快、易于控制以及高效反应位点分析,及时检测反应中间体的功能也有利于反应机理的研究。
搜索关键词: 一种 测定 分子 间距 方法
【主权项】:
1.一种测定气相分子位点间距离的方法,其特征在于,包括以下步骤:反应物正离子通过电喷雾离子源(ESI)正模式离子化,在线性离子阱(LIT)中采用全扫描模式检测正离子;反应物负离子通过ESI负模式离子化,在LIT中采用全扫描模式检测负离子;正、负离子选择性传输进入LIT进行反应,反应时间1‑1000ms,采用质量分析器检测反应产物,以此确定反应是否发生;再次进行反应,并选择共价修饰离子进行串级质谱分析,用于鉴别反应活性位点;计算获得底物能量最低构象,在此基础上测量出反应活性位点与互作位点之间距离,由此得出大分子的两位点间距。
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