[发明专利]光源及其制备方法、背光模组、显示面板在审
| 申请号： | 201810689800.7 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN108803142A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 杨勇 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光源及其制备方法、背光模组、显示面板，该光源包括：基板、固定于基板表面的发光芯片、设置于发光芯片表面的微结构，以及覆盖微结构和基板表面的荧光膜层；其中，微结构包括第一介质膜层和第二介质膜层，第一介质膜层覆盖发光芯片，第二介质膜层覆盖第一介质膜层，第一介质膜层的折射率小于第二介质膜层的折射率，第二介质膜层的折射率大于荧光膜层的折射率。通过上述方式，本申请能够改善光源的混光特性。 | ||
| 搜索关键词： | 介质膜层 折射率 光源 发光芯片 微结构 背光模组 基板表面 显示面板 荧光膜层 制备 覆盖 混光特性 基板 申请 | ||
【主权项】：
1.一种光源，其特征在于，包括：基板、固定于所述基板表面的发光芯片、设置于所述发光芯片表面的微结构，以及覆盖所述微结构和所述基板表面的荧光膜层；其中，所述微结构包括第一介质膜层和第二介质膜层，所述第一介质膜层覆盖所述发光芯片，所述第二介质膜层覆盖所述第一介质膜层，所述第一介质膜层的折射率小于所述第二介质膜层的折射率，所述第二介质膜层的折射率大于所述荧光膜层的折射率。
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