[发明专利]辐射屏障有效
申请号: | 201810696451.1 | 申请日: | 2018-06-28 |
公开(公告)号: | CN109385624B | 公开(公告)日: | 2023-10-20 |
发明(设计)人: | M·范巴斯 | 申请(专利权)人: | ASMIP控股有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/52;B01J15/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王冉 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开一种辐射屏障和组件以及包括该辐射屏障的反应器。该辐射屏障能够用于控制来自基座加热器组件的热通量并且由此使得能够更好地控制跨过衬底表面的温度,该衬底被放置在基座加热器组件的表面上。 | ||
搜索关键词: | 辐射 屏障 | ||
【主权项】:
1.一种用于反应器中的辐射屏障,所述辐射屏障包括:板,所述板包括第一区段和第二区段,其中所述第一区段包括环形盘,所述环形盘具有内周和外周,并且其中所述第二区段包括中空截头圆锥形状;和附接装置,所述附接装置用于将所述板附接到所述反应器的反应室内的基座加热器组件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASMIP控股有限公司,未经ASMIP控股有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810696451.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种薄膜沉积方法和沉积薄膜
- 下一篇:一种MPCVD设备控温装置及方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的