[发明专利]导电层叠结构及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201810703835.1 | 申请日： | 2018-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN108984027B | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 史梁;郭瑞;林昶;乔贵洲;谢峰;崔志远 | 申请（专利权）人： | 广州国显科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 周耀君 |
| 地址： | 511300 广东省广州市增城区永*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种导电层叠结构及其制作方法、显示装置，在基底的走线区形成有若干个支撑柱，在基底及支撑柱上形成有纳米金属线层，相邻支撑柱之间的纳米金属线层受重力与表面张力作用，表面会呈凹曲面，然后在所述纳米金属线层上形成有增粘层，所述增粘层覆盖所述纳米金属线层，且相邻所述支撑柱之间的所述增粘层也具有凹曲面，之后在所述增粘层的凹曲面内形成有走线层，所述走线层与所述纳米金属线层的接触面为曲面，在不增加边框宽度的前提下，能够增加所述走线层与所述纳米金属线层的接触面积，从而提高所述纳米金属线层的导电能力。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 层叠 结构 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种导电层叠结构，其特征在于，包括：基底；若干个支撑柱，若干个所述支撑柱位于所述基底的走线区；纳米金属线层，所述纳米金属线层覆盖所述基底与所述支撑柱，且相邻所述支撑柱之间的所述纳米金属线层具有凹曲面；增粘层，所述增粘层覆盖所述纳米金属线层，且相邻所述支撑柱之间的所述增粘层具有凹曲面；以及走线层，所述走线层位于所述增粘层的所述凹曲面内。
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