[发明专利]一种改进的MPCVD设备基板台冷却结构在审

专利信息
申请号: 201810705213.2 申请日: 2018-07-01
公开(公告)号: CN108866514A 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 黄翀;范杰 申请(专利权)人: 长沙新材料产业研究院有限公司
主分类号: C23C16/517 分类号: C23C16/517;C23C16/52;C23C16/458;C23C16/46
代理公司: 武汉智汇为专利代理事务所(普通合伙) 42235 代理人: 李恭渝
地址: 410205 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种改进的MPCVD设备基板台冷却结构,包括基板台支撑台、设置有冷却液出口的冷却管,还包括设置于冷却液出口处的喷头,所述基板台支撑台底部非接触基板台的一侧面为中间凹、两侧高的底部弧面,所述喷头的一端连接冷却管,另一端喷口处设置有截面面积覆盖基板台支撑台底面面积的托水板。本发明使冷却液经过冷却管进入喷头并储存于喷头内,喷头的另一端喷口处设置有截面面积覆盖基板台支撑台底面面积的托水板,托水板呈弧形状与所述底部弧面形状匹配,托水板与底部弧面之间留有均匀的缝隙用于流出冷却液,冷却液均匀分布在基板台底部,实现基板台底部全覆盖,进而使基板台得以均匀冷却。
搜索关键词: 基板台 喷头 冷却液 托水板 底部弧面 冷却管 支撑台底面 冷却结构 面积覆盖 设备基板 喷口处 支撑台 冷却液出口 均匀冷却 形状匹配 一端连接 非接触 弧形状 全覆盖 改进 流出 储存 侧面
【主权项】:
1.一种改进的MPCVD设备基板台冷却结构,包括基板台支撑台、设置有冷却液出口的冷却管,还包括设置于冷却液出口处的喷头,其特征在于,所述基板台支撑台底部非接触基板台的一侧面为中间凹、两侧高的底部弧面,所述喷头的一端连接冷却管,另一端喷口处设置有截面面积覆盖基板台支撑台底面面积的托水板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长沙新材料产业研究院有限公司,未经长沙新材料产业研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810705213.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top