[发明专利]一种可控同位素中子源在审
| 申请号： | 201810707116.7 | 申请日： | 2018-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN110473646A | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 苏耿华;石厦青;包鹏飞 | 申请（专利权）人： | 中广核研究院有限公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司 |
| 主分类号： | G21G4/02 | 分类号： | G21G4/02 |
| 代理公司： | 44238 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) | 代理人： | 孙威;潘中毅<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 518000 广东省深圳市福田区上步中路*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可控同位素中子源，包括：密封容器；设在密封容器中的用以镀α粒子发射体的基体，α粒子发射体镀层设在基体外周的部分区域；设在密封容器中的金属靶核，金属靶核设置在基体的周围，且与基体的外周保持一定的距离，其中：基体和/或金属靶核设为可绕轴旋转，使改变基体上α粒子发射体镀层与金属靶核的相对位置获得不同强度中子源，使改变基体的旋转速度获得不同频率的中子束脉冲。实施本发明的可控同位素中子源，中子源强可调，能够获得不同频率的中子束脉冲；实现中子发射的开关控制，使得中子源的安全性得到提高；结构简单，体积小，重量轻。 | ||
| 搜索关键词： | 金属靶 密封容器 发射体 中子源 粒子 同位素中子源 中子束 脉冲 镀层 可控 外周 开关控制 绕轴旋转 位置获得 中子发射 体积小 重量轻 可调 | ||
【主权项】：
1.一种可控同位素中子源，其特征在于，包括：/n密封容器；/n设在所述密封容器中的用以镀α粒子发射体的基体，所述α粒子发射体镀层设在所述基体外周的部分区域；/n设在所述密封容器中的金属靶核，所述金属靶核设置在所述基体的周围，且与所述基体的外周保持一定的距离，其中：所述基体和/或所述金属靶核设为可绕轴旋转，使改变基体上α粒子发射体镀层与金属靶核的相对位置获得不同强度中子源，使改变基体的旋转速度获得不同频率的中子束脉冲。/n
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