[发明专利]液晶介电常数的测量装置、测量系统、测量方法有效
| 申请号： | 201810710418.X | 申请日： | 2018-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN108872713B | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 卢永春 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01R27/26 | 分类号： | G01R27/26 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 胡萌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种液晶介电常数的测量装置、测量系统、测量方法，以提高对液晶在太赫兹频段的介电常数的测量的灵敏度、准确度及测量效率，并简化测量装置的结构，降低测量成本。其中所述测量装置包括：相对设置的第一基板和第二基板；依次设置于第一基板朝向第二基板一面上的谐振结构层及第一配向膜；设置于第二基板朝向第一基板一面上的第二配向膜；设置于第一基板和第二基板之间的边框，边框配合第一基板和第二基板形成用于容纳待测量的液晶的空腔。上述测量装置应用于对液晶在太赫兹波频段的介电常数的测量中。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 介电常数 测量 装置 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种液晶介电常数的测量装置，其特征在于，所述测量装置包括：相对设置的第一基板和第二基板；依次设置于所述第一基板朝向所述第二基板一面上的谐振结构层及第一配向膜；设置于所述第二基板朝向所述第一基板一面上的第二配向膜；设置于所述第一基板和所述第二基板之间的边框，所述边框配合所述第一基板和所述第二基板形成用于容纳待测量的液晶的空腔。
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