[发明专利]光照射装置在审
申请号: | 201810710646.7 | 申请日: | 2018-07-03 |
公开(公告)号: | CN109203667A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 紫藤和孝 | 申请(专利权)人: | 豪雅冠得股份有限公司 |
主分类号: | B41F23/04 | 分类号: | B41F23/04;F21V5/04 |
代理公司: | 青岛智地领创专利代理有限公司 37252 | 代理人: | 肖峰;陈海滨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种可以在规定的工作距离内,照射具有规定的照射强度及照射强度分布的线状光的光照射装置。光照射装置,具有发光单元和反射镜部,该发光单元具有:基板;以及多个光源,它们在基板上沿第1方向每隔规定间隔而排列,使光轴的朝向一致地沿与第1方向及第2方向正交的第3方向而配置,该反射镜部具有使从该发光单元照射的光反射而进行聚光的反射镜面,在将反射镜部沿由第2方向和第3方向规定的平面切断的剖面中,反射镜面的剖面形状成为使将第2方向设为横轴x,将第3方向设为纵轴y的坐标中的抛物线y=ax2(a为系数)的横轴方向正侧的部分及横轴方向负侧的部分,分别以原点为中心向所述纵轴以相同的旋转角度旋转后的曲线形状。 | ||
搜索关键词: | 光照射装置 发光单元 反射镜部 照射 横轴 基板 抛物线 原点 朝向一致 反射镜面 方向正交 工作距离 角度旋转 平面切断 剖面形状 强度分布 曲线形状 反射镜 光反射 聚光的 线状光 负侧 光轴 光源 配置 | ||
【主权项】:
1.一种光照射装置,其向基准的照射面上的规定的照射位置,照射沿第1方向延伸且在与所述第1方向正交的第2方向上具有规定线宽的线状光,其特征在于,具有:发光单元,其具有基板和多个光源,多个光源在所述基板上沿所述第1方向每隔规定间隔而排列,使光轴的朝向一致地沿与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向而配置;以及反射镜部,其具有使从该发光单元照射的光反射而进行聚光的反射镜面,在将所述反射镜部沿由所述第2方向和所述第3方向规定的平面切断的剖面中,所述反射镜面的剖面形状成为使将所述第2方向设为横轴x、将所述第3方向设为纵轴y的坐标中的抛物线y=ax2的横轴方向正侧的部分及横轴方向负侧的部分,分别以原点为中心向所述纵轴以相同的旋转角度θ旋转后的曲线形状,其中,a为系数。
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