[发明专利]清除装置、光刻设备和光刻方法有效
| 申请号： | 201810713502.7 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN110658686B | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 吴丽丽 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种清除装置、光刻设备和光刻方法，所述清除装置包括：吸附单元和负压通道；所述吸附单元位于一工件台表面，所述负压通道位于所述工件台内部，所述负压通道和所述吸附单元连通并向所述吸附单元提供负压，如果光栅面板含有浸液，则可以通过负压吸附予以清洁，从而减少擦拭或更换光栅面板的几率，还能减少光栅面板的二次污染，提高了清洁光栅面板的便捷性及可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 清除 装置 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清除装置，其特征在于，所述清除装置包括：吸附单元和负压通道；/n所述吸附单元面向待清除物的承载面设置于一工件台表面，所述负压通道位于所述工件台内部，所述负压通道和所述吸附单元连通并向所述吸附单元提供负压。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810713502.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
