[发明专利]轨迹间的局部光顺过渡方法、设备及存储介质有效
| 申请号： | 201810716469.3 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN108829031B | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 刘焕;王昕;柏子平 | 申请（专利权）人： | 深圳市汇川技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G05B19/19 | 分类号： | G05B19/19 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 陆军 |
| 地址： | 518101 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种轨迹间的局部光顺过渡方法设备及存储介质，所述轨迹包括第一轨迹和第二轨迹，且所述第一轨迹与所述第二轨迹相交于衔接点；所述方法包括：获取第一轨迹上的第一过渡点，并以所述第一过渡点与所述衔接点为端点构建第一直线轨迹；获取第二轨迹上的第二过渡点，并以所述第二过渡点与所述衔接点为端点构建第二直线轨迹；对所述第一直线轨迹和第二直线轨迹进行局部光顺过渡并生成过渡曲线，并将所述过渡曲线作为第一轨迹与第二轨迹的过渡轨迹。本发明可以实现对任意轨迹间的衔接进行高效、精确的光顺过渡，使控制系统能平滑的控制末端执行器，不会出现进给方向的突变，使运动过程更加平滑。 | ||
| 搜索关键词： | 轨迹 局部 过渡 方法 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种轨迹间的局部光顺过渡方法，其特征在于，所述轨迹包括第一轨迹和第二轨迹，且所述第一轨迹与所述第二轨迹相交于衔接点，所述方法包括：获取第一轨迹上异于所述衔接点的第一过渡点，并以所述第一过渡点与所述衔接点为端点构建第一直线轨迹，且所述第一直线轨迹与第一轨迹的弓高误差不超过预设弓高误差；获取第二轨迹上异于所述衔接点的第二过渡点，并以所述第二过渡点与所述衔接点为端点构建第二直线轨迹，且所述第二直线轨迹与第二轨迹的弓高误差不超过所述预设弓高误差；对所述第一直线轨迹和第二直线轨迹进行局部光顺过渡生成过渡曲线，并将所述过渡曲线作为第一轨迹与第二轨迹的过渡轨迹。
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