[发明专利]一种银蚀刻液有效
| 申请号： | 201810720411.6 | 申请日： | 2018-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN110670072B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 何春阳;赵鹏;刘兵;张维棚;孙广胜 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种银蚀刻液，含有：硝酸、磷酸、醋酸、水、多元醇和硝酸盐。本发明的蚀刻液蚀刻能力强，具有长时间使用寿命，可有效蚀刻由银或银合金构成的单一膜、或者由所述单一膜和透明导电膜构成的多层膜，不会引起银的残留或残渣，同时对非金属材料(如TEOS)和金属材料(如Ti)等有较小的蚀刻速率，在半导体平面显示等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 | ||
【主权项】：
1.一种银蚀刻液，其特征在于，包括按照质量百分比浓度所述银蚀刻液包括以下组分：/n
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