[发明专利]集CVD和PVD一体的真空镀膜设备及真空镀膜方法在审
| 申请号： | 201810723682.7 | 申请日： | 2018-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN108624848A | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 刘振波;霍锦辉;张向阳 | 申请（专利权）人： | 深圳海容高新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C16/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市前海深港合作区前*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种集CVD和PVD一体的真空镀膜设备，包括真空箱体，真空箱体内顶部或侧部设有基片固定机构，在真空箱体内充满已经加热后的靶材和由机械手控制旋转360度工作的离子枪，靶材以气态的形态沉积在基片表面形成薄膜，离子枪包括与机械手连接的枪把，枪把的端部设有一枪嘴，枪嘴内安装有高频线圈。本发明采用了PVC(物理沉积)和CVD(化学气相沉积)相结合的方式，通过CVD(化学气相沉积)的离子枪结构，可以对应基片的特定位置进行定点镀膜的作用，消除基片特定位置只有单层薄膜的缺陷，可以提高基片在特定位置的抗压能力。 | ||
| 搜索关键词： | 真空箱体 离子枪 化学气相沉积 真空镀膜设备 靶材 枪把 枪嘴 基片固定机构 机械手控制 机械手 单层薄膜 高频线圈 基片表面 抗压能力 物理沉积 真空镀膜 内顶部 镀膜 沉积 薄膜 加热 | ||
【主权项】：
1.一种集CVD和PVD一体的真空镀膜设备，包括真空箱体，其特征在于，所述真空箱体内顶部或侧部设有基片固定机构，在所述真空箱体内充满已经加热后的靶材和由机械手控制旋转360度工作的离子枪，所述靶材以气态的形态沉积在基片表面形成薄膜，所述离子枪包括与所述机械手连接的枪把，所述枪把的端部设有一枪嘴，所述枪嘴内安装有高频线圈，所述枪嘴包括底盖、中间固定套、喷嘴、设置在所述低盖内的底盖金属套、套设在所述中间固定套上的接触片和穿设在所述中间固定套中部的高频线圈固定杆，所述高频线圈固定杆的一端从所述喷嘴穿出，所述高频线圈固定杆的另一端与所述底盖金属套接触，所述底盖、中间固定套、喷嘴相互连接，所述高频线圈位于所述中间固定套与所述喷嘴之间的空间内。
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