[发明专利]用于增材制造技术制造陶瓷产品的光敏陶瓷前驱体制备方法

摘要

本发明公开了一种用于增材制造技术制造陶瓷产品的光敏陶瓷前驱体制备方法，包括以下步骤：氯甲基甲基二氯硅烷与二氯甲基乙烯基硅烷水解反应得到线性聚硅氧烷，然后采用二甲基乙烯基氯硅烷对线性聚硅氧烷进行封端反应，封端后的聚硅氧烷与丙烯酸‑2‑羟乙酯、三乙胺反应得到光敏陶瓷前驱体。本发明制备出可紫外光固化的聚硅氧烷陶瓷前驱体，所得光敏陶瓷前驱体在适合引发剂的加入下，紫外光照射30s时可达到80％的双键转化率，40s时可达到90％双键转化率，具有很高效的光固化性能；将本发明的光敏陶瓷前驱体作为原料，采用立体光刻技术进行增材制造，可得到形貌规整的固化产品，该固化产品外观光洁，强度较高。

主权项

1.一种用于增材制造技术制造陶瓷产品的光敏陶瓷前驱体制备方法，其特征在于，合成路线如下：式中，n为正整数；具体合成方法如下：步骤1，如式(Ⅰ)所示，在氩气保护下，依次将氯甲基甲基二氯硅烷与二氯甲基乙烯基硅烷加入到干燥的Schllenk瓶中，搅拌均匀，然后往其中滴加去离子水，滴加速度为1滴/10s，滴加完毕后于室温下反应至无气泡产生，得到反应液一；将反应液一置于45℃下反应12h，反应完毕得到线性聚硅氧烷；将线性聚硅氧烷干燥后往其中加入二甲基乙烯基氯硅烷进行封端反应，封端反应6h后得到封端聚硅氧烷；其中，氯甲基甲基二氯硅烷、二氯甲基乙烯基硅烷、去离子水：二甲基乙烯基氯硅烷的体积比为38.98：40.40：10：3；步骤2，将步骤1得到的封端聚硅氧烷置于冰浴中，并往封端聚硅氧烷中加入与封端聚硅氧烷等体积的THF作为溶剂，然后往其中加入丙烯酸‑2‑羟乙酯，搅拌均匀，再往其中滴加三乙胺，滴加速度为1滴/5s，滴加完毕后于冰浴中反应4h，反应完毕后得到反应液二，将反应液二过滤，收集滤液，再将滤液浓缩，得到透明的粘稠状液体，即为所述光敏陶瓷前驱体；其中，氯甲基甲基二氯硅烷、丙烯酸‑2‑羟乙酯、三乙胺的体积比为38.98：34.08：50.54。