[发明专利]一种用于制备微孔铜箔的化学腐蚀剂在审
| 申请号： | 201810724600.0 | 申请日： | 2018-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN108977202A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 王宥宏;刘忆恩 | 申请（专利权）人： | 山西沃特海默新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/04 | 分类号： | C09K13/04;H01M4/04 |
| 代理公司： | 太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙) 14109 | 代理人： | 崔雪花;冷锦超 |
| 地址： | 030108 山西省太原市综*** | 国省代码： | 山西;14 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于制备微孔铜箔的化学腐蚀剂，属于锂电池负极材料制备技术领域；所要解决的技术问题是：提供一种制备高性能微孔铜箔的化学腐蚀剂，采用的方案为：腐蚀剂包括如下摩尔浓度的溶液：0.5‑1.5mol/L的HCl，0.5‑2mol/L的C2H2O4，0.1‑0.5mol/L的NH4Cl，0.1‑1mol/L的FeCl3，所述的腐蚀剂还包括如下摩尔浓度的溶液：0.5‑1.5mol/L的HgCl2，所述的腐蚀剂还包括如下摩尔浓度的溶液：0.1‑0.5mol/L AgCl2；本发明可广泛的应用到微孔铜箔制备技术领域中。 | ||
| 搜索关键词： | 铜箔 微孔 化学腐蚀剂 腐蚀剂 制备技术领域 制备 锂电池负极材料 制备高性能 应用 | ||
【主权项】：
1.一种用于制备微孔铜箔的化学腐蚀剂，其特征在于：所述的腐蚀剂包括如下摩尔浓度的溶液：0.5‑1.5mol/L的HCl，0.5‑2mol/L的C2H2O4，0.1‑0.5mol/L的NH4Cl，0.1‑1mol/L的FeCl3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西沃特海默新材料科技股份有限公司，未经山西沃特海默新材料科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810724600.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
