[发明专利]电光调制双光梳形貌测量装置及其校验方法有效

专利信息
申请号: 201810726965.7 申请日: 2018-07-04
公开(公告)号: CN108844493B 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 赵显宇;张福民;李雯靓;汤国庆;曲兴华 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01B11/245 分类号: G01B11/245
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘歌
地址: 300354*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种电光调制双光梳形貌测量装置及其校验方法,所述电光调制双光梳形貌测量装置包括:电光调制双光梳生成模块,用于生成中心频率和重复频率不同的光学频率梳;多外差一维测距模块,用于测量被测物在其出射激光方向上的一维距离信息;二维运动模块,用于带动被测物体做螺旋移动,并提供被测物x方向和y方向上的二维距离信息;计算处理单元,用于整合分析被测物z方向、x方向和y方向上的距离信息,生成被测物体的三维形貌。本发明的电光调制双光梳形貌测量装置及其校验方法使用基于电光调制双光梳的合成波长测距装置,能得到很高的z方向测距精度,且装置易调节,可方便实现垂直度校验等工作。
搜索关键词: 电光 调制 双光梳 形貌 测量 装置 及其 校验 方法
【主权项】:
1.一种电光调制双光梳形貌测量装置,其特征在于,包括:电光调制双光梳生成模块,用于生成中心频率和重复频率不同的光学频率梳;多外差一维测距模块,使用所述双光学频率梳测量被测物在其出射激光方向上的一维距离信息,所述多外差一维测距模块的出射激光方向为z方向;二维运动模块,用于带动被测物体做螺旋移动,并提供被测物x方向和y方向上的二维距离信息;计算处理单元,用于整合分析所述多外差一维测距模块得到的z方向信息和所述二维运动模块得到的x方向和y方向上的二维距离信息,生成被测物体的三维形貌。
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