[发明专利]一种改进型压电陶瓷片应力测量方法及测量装置有效

专利信息
申请号: 201810727642.X 申请日: 2018-07-05
公开(公告)号: CN109282919B 公开(公告)日: 2019-09-03
发明(设计)人: 刘宇刚;孙艳玲;郭佳佳;于文东;张华伟;雷建军 申请(专利权)人: 西安电子科技大学;中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所
主分类号: G01L1/00 分类号: G01L1/00;G01B21/02
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 孙涛涛
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种改进型压电陶瓷片应力测量方法和测量装置,所述测量方法包括:调节施加在压电陶瓷片上的电压,并获取施加电压条件下的第一接触压力和第一接触位移,以及未施加电压条件下的第二接触压力和第二接触位移;判断所述第一接触位移与所述第二接触位移的大小,并根据判断结果计算所述压电陶瓷片的应力值。所述测量装置包括电源、支撑杆、两个位移台、两个力传感器、力传感器显示仪器、两个位移传感器以及位移传感器显示仪器。本发明的测量方法和装置能够测量不同加压或降压条件下压电陶瓷片两端的压力从而获知压电陶瓷片的性能特点,且能够克服系统变形造成的测量误差,便于可靠地筛选性能良好的压电陶瓷片。
搜索关键词: 压电陶瓷片 测量装置 测量 接触压力 力传感器 施加电压 显示仪器 应力测量 改进型 个位移传感器 下压电陶瓷片 方法和装置 位移传感器 降压条件 判断结果 性能特点 位移台 支撑杆 获知 加压 变形 电源 筛选 施加
【主权项】:
1.一种改进型压电陶瓷片应力测量方法,其特征在于,所述方法包括:S1:调节施加在压电陶瓷片上的电压,并获取施加电压条件下的第一接触压力和第一接触位移,以及未施加电压条件下的第二接触压力和第二接触位移;S2:判断所述第一接触位移与所述第二接触位移的大小,并根据判断结果计算所述压电陶瓷片的应力值,其中,所述S2包括:S21:判断所述第一接触位移的数值与所述第二接触位移的数值是否相等;若相等,执行S22,若不相等,执行S23;S22:根据所述第一接触压力和所述第二接触压力计算所述压电陶瓷片的应力值;S23:调节力传感器的位置,使得所述第一接触位移与所述第二接触位移的数值相等,获取第三接触压力,并根据所述第一接触压力和所述第三接触压力计算所述压电陶瓷片的应力值。
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