[发明专利]包括防板偏检知设计的曝光设备

摘要

一种包括防板偏检知设计的曝光设备，其具有机台本体、承载平台、第一侦测组件、第二侦测组件及控制装置。承载平台设置于机台本体中，承载平台的曝光面用以承载待曝光件。第一侦测组件包含有两个第一侦测器，两个第一侦测器能侦测待曝光件的第一侧边。第二侦测组件包含有两个第二侦测器，两个第二侦测器能侦测待曝光件的第二侧边。控制装置能依据第一侦测组件及第二侦测组件侦测待曝光件的第一侧边及第二侧边的结果，而判断待曝光件是否正确地设置于承载平台，而控制装置能于待曝光件未正确地设置于承载平台上时，控制警示装置动作，以提醒使用者。

主权项

1.一种防板偏检知设计，其特征在于，所述防板偏检知设计用以对一待曝光件进行曝光，所述防板偏检知设计包含：/n一机台本体，其设置有一曝光装置，所述曝光装置用以对所述待曝光件进行曝光；/n一承载平台，其设置于所述机台本体，所述承载平台具有一曝光面，所述曝光面用以承载所述待曝光件，所述曝光面彼此相互垂直的两侧边分别定义为一第一基线及一第二基线；所述曝光装置所产生的曝光光束能通过所述曝光面而照射于所述待曝光件；/n一第一侦测组件，其包含有两个第一侦测器，所述第一侦测器用以侦测设置于所述曝光面上的所述待曝光件的一第一侧边相对于所述第一基线的位置；/n一第二侦测组件，其包含有两个第二侦测器，所述第二侦测器用以侦测设置于所述曝光面上的所述待曝光件的一第二侧边相对于所述第二基线的位置；其中，所述第一侧边垂直于所述第二侧边；/n一控制装置，其电性连接所述第一侦测组件及所述第二侦测组件，所述控制装置能依据两个所述第一侦测器侦测所述待曝光件的所述第一侧边相对于所述第一基线的位置的结果，及两个所述第二侦测器侦测所述待曝光件的所述第二侧边相对于所述第二基线的位置的结果，以在所述待曝光件未正确地设置于所述曝光面上时，控制一警示装置动作；所述控制装置能依据两个所述第一侦测器侦测所述待曝光件的所述第一侧边相对于所述第一基线的位置的结果，及两个所述第二侦测器侦测所述待曝光件的所述第二侧边相对于所述第二基线的位置的结果，在所述待曝光件正确地设置于所述曝光面上时，控制所述曝光装置动作，以对所述待曝光件进行曝光作业。/n