[发明专利]一种CVD金刚石涂层基体表面预处理方法有效

专利信息
申请号: 201810731366.4 申请日: 2018-07-05
公开(公告)号: CN108823549B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 黄飞 申请(专利权)人: 四川纳涂科技有限公司
主分类号: C23C16/02 分类号: C23C16/02;C23C16/27
代理公司: 北京中创博腾知识产权代理事务所(普通合伙) 11636 代理人: 李梅
地址: 618000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种CVD金刚石涂层基体表面预处理方法,解决了现有技术中涂层作业时,基体的深层钴原子迁移至基体表层,坏金刚石膜底层结构,降低膜基结合力的问题。本发明的预处理方法包括以下步骤:将硬质合金拉丝模超声波清洗后,烘干,再整齐摆放入石墨坩埚中,将坩埚放置入真空炭化炉,抽至极限真空;通入氢气,加热至设定温度,控制反应压力,反应,反应结束后,关闭氢气,抽真空至极限真空;降低反应室温度,向反应室内通入氧气,控制反应压力,反应结束后关闭电源和气源,将反应室抽至极限真空度后,关闭反应室阀门,待模具自然自然冷却至常温后,取出模具进行检测;检测合格的拉丝模超声植晶,清洗、烘干。本发明设计科学,方法简单。
搜索关键词: 一种 cvd 金刚石 涂层 基体 表面 预处理 方法
【主权项】:
1.一种CVD金刚石涂层基体表面预处理方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1.将硬质合金拉丝模用超声波清洗后,烘干,再整齐摆放入石墨坩埚中,将所述坩埚放置入真空炭化炉,抽至极限真空后,并保持一段时间;步骤2.向反应室通入氢气,加热至设定的反应温度,控制反应压力,反应一段时间,反应结束后,关闭氢气,抽真空至极限真空,并保持一段时间;步骤3.降低反应室温度,向反应室内通入氧气,控制反应压力,反应一段时间,反应结束后,关闭电源和气源,将反应室抽至极限真空度后,关闭反应室阀门,待模具自然自然冷却至常温后,取出模具进行检测;步骤4.将经步骤3检测合格的拉丝模放入超声波机中进行超声植晶,处理结束后捞出清洗、烘干。
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