[发明专利]一种自动上料的流动式太阳能电池晶体硅清洗设备在审
| 申请号： | 201810738189.2 | 申请日： | 2018-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN109065473A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 刘宏;王春定;龚志国;姚学森;刘柏林 | 申请（专利权）人： | 天长市百盛半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677;H01L31/18 |
| 代理公司： | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人： | 傅磊 |
| 地址： | 239300 安徽省滁州市天长*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种自动上料的流动式太阳能电池晶体硅清洗设备，包括：清洗槽、循环机构和上料机构，其中：清洗槽包括多个排列布置的水槽；循环机构包括循环带和动力单元；循环带依次从各水槽内穿过，循环带上设有若干个由其一端向其一端方向等间距布置的凹槽，且凹槽的底部为镂空结构；动力单元用于驱动循环带进行循环传送动作，并使其每动作一次，其循环带移动量为凹槽之间的间距；排在首位的水槽的内部且位于其中一个凹槽的上方设有竖直布置的导向筒；上料机构用于将待清洗的工件向导向筒内部输送并使其成水平状态落入导向筒内。本发明可以有效提高清洗效率和效果。 | ||
| 搜索关键词： | 循环带 水槽 导向筒 太阳能电池 动力单元 清洗设备 上料机构 循环机构 自动上料 晶体硅 流动式 清洗槽 等间距布置 排列布置 清洗效率 竖直布置 水平状态 循环传送 镂空结构 移动量 清洗 穿过 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种自动上料的流动式太阳能电池晶体硅清洗设备，其特征在于，包括：清洗槽、循环机构和上料机构，其中：清洗槽包括多个排列布置的水槽(1)；循环机构包括循环带(2)和动力单元；循环带(2)依次从各水槽(1)内穿过，循环带(2)上设有若干个由其一端向其一端方向等间距布置的凹槽(a)，且凹槽(a)的底部为镂空结构；动力单元用于驱动循环带(2)进行循环传送动作，并使其每动作一次，其循环带(2)移动量为凹槽(a)之间的间距；排在首位的水槽(1)的内部且位于其中一个凹槽(a)的上方设有竖直布置的导向筒(3)；上料机构用于将待清洗的工件向导向筒(3)内部输送并使其成水平状态落入导向筒(3)内。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
