[发明专利]感光元件、光电传感探测基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810752989.X 申请日: 2018-07-10
公开(公告)号: CN108878572B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 黄睿 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/0224;H01L31/0232;H01L27/146
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 袁礼君;王卫忠
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开是关于一种感光元件、光电传感探测基板及光电传感探测基板的制造方法,涉及光电技术领域。本公开的感光元件包括第一电极层、光电转化层、第二电极层、绝缘层和第三电极层。光电转化层设于第一电极层。第二电极层设于光电转化层远离第一电极层的表面。绝缘层覆盖光电转化层的侧面和第二电极层远离光电转化层的至少部分表面,且绝缘层为透明材质。第三电极层覆盖绝缘层,用于将进入绝缘层内的至少部分光线反射至光电转化层的侧面。本公开的感光元件可提高光电流,使光电传感探测基板的信噪比提升。
搜索关键词: 感光 元件 光电 传感 探测 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种感光元件,其特征在于,包括:第一电极层;光电转化层,设于所述第一电极层;第二电极层,设于所述光电转化层远离所述第一电极层的表面;绝缘层,覆盖所述光电转化层的侧面和所述第二电极层远离所述光电转化层的至少部分表面,且所述绝缘层为透明材质;第三电极层,覆盖所述绝缘层,用于将进入所述绝缘层内的至少部分光线反射至所述光电转化层的侧面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810752989.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top