[发明专利]一种用于制备高抗拉锂电铜箔的电解液有效
| 申请号： | 201810754016.X | 申请日： | 2018-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN108677224B | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 马科;罗佳;江泱;范远朋 | 申请（专利权）人： | 九江德福科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/04 | 分类号： | C25D1/04;C25D3/38 |
| 代理公司： | 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 | 代理人： | 张朝元 |
| 地址： | 332000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于制备高抗拉锂电铜箔的电解液，包含主电解液和添加剂，主电解液包含硫酸铜、硫酸和氯离子，添加剂包含A剂、B剂、C剂，A剂为含硫杂环化合物，B剂为含氮天然或合成高分子化合物，C剂为嵌段聚醚类化合物。本发明的电解液通过采用特定的添加剂及其配比优化，可以有效控制晶粒的生长，减少铜箔缺陷，获得致密的铜箔，以此制备的铜箔，具有高抗拉强度、高延伸率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 高抗拉锂电 铜箔 电解液 | ||
【主权项】：
1.一种用于制备高抗拉锂电铜箔的电解液，包含主电解液和添加剂，主电解液包含硫酸铜、硫酸和氯离子，其特征在于，添加剂包含A剂、B剂、C剂，A剂为含硫杂环化合物，B剂为含氮天然或合成高分子化合物，C剂为嵌段聚醚类化合物，所述电解液中铜离子、硫酸、氯离子、A剂、B剂、C剂的浓度分别为50‑100 g/L、80‑140 g/L、20‑45 mg/L、5‑60 mg/L、5‑70 mg/L、10‑100 mg/L。
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