[发明专利]一种多晶硅还原炉

摘要

本发明公开了一种多晶硅还原炉，采用新颖的直流‑交流混合加热方式，当硅棒直径小于14cm时，采用直流电加热；当硅棒直径大于14cm时，改为交流电加热。本发明解决了传统加热方式下因硅棒中心温度过高而发生的熔硅、因热应力的作用而产生的倒棒问题，从而提升还原炉运行的可靠性，增强多晶硅生产的稳定性，提高多晶硅的生产效率。并且应用交流电加热的趋肤效应，可增大硅棒的最大沉积半径，从而增大多晶硅的单炉产量，降低单位能耗，达到降低能耗、减少生产成本的目的。

主权项

1.一种多晶硅还原炉，包括炉体（1）、底盘（2）、石墨卡槽（7）、电极（8）、硅棒（9）、直流电源（6）和交流电源（5）；炉体（1）与底盘（2）固定连接构成一个中空的钟罩式腔室；炉体（1）外层和底盘（2）分别设有冷却水夹套（12），冷却水入口（1a）和冷却水出口（1b）分别设于炉体（1）和底盘（2）两侧；多对硅棒（9）通过设置在底盘（2）上的石墨卡槽（7）固定在炉体（1）内；每对硅棒（9）分别连接成“U”型，两端分别与电极（8）的正负极连接，构成一个循环；多对硅棒（9）分为两部分，以底盘（2）中心为中心呈同心环均匀分布；电极（8）一端与硅棒（9）连接，另一端通过导线与直流电源（6）和交流电源（5）连通，导线上设有控制开关（11）；组成“外环”的硅棒（9）与组成“内环”的硅棒（9）分别独立供电；底盘（2）上设有一个以上的进气口（4）和一个以上的出气口（3）；炉体（1）上设有多个观察窗（10）。