[发明专利]一种温和深层清洁面膜的制备方法在审
| 申请号： | 201810759902.1 | 申请日： | 2018-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN108653019A | 公开（公告）日： | 2018-10-16 |
| 发明（设计）人： | 高昕文;张鑫;李静 | 申请（专利权）人： | 高昕文 |
| 主分类号： | A61K8/34 | 分类号： | A61K8/34;A61K8/365;A61K8/37;A61K8/60;A61K8/73;A61K8/81;A61K8/92;A61K8/9789;A61K8/9794;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 朱亲林 |
| 地址： | 213000 江苏省常州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种温和深层清洁面膜的制备方法，属于日化用品技术领域。本发明利用在芦荟加入壳聚糖稳定芦荟微生物体系，壳聚糖具有很好的成膜性，与一些高分子物质复合成膜，其膜强度大韧性高，壳聚糖属于多糖类物质，其分子结构决定它亲水性亲蛋白质性好，对皮肤无过敏、无刺激、无毒性反应，壳聚糖能增强皮肤对细菌、真菌所引起感染的免疫力，阻碍原菌生长，促进皮肤创口的愈合，对破损的皮肤不但不会使其感染，且能促进愈合，消除面部疾患，由于壳聚糖能通过分子中的氨基、经基与Hg2+、Ni2+、Pb2+等重金属离子形成配合物，因此，含壳聚糖的面膜能捕集因使用其他化妆品而遗留在皮肤中的重金属离子，本发明深层清洁皮肤效果显著，且温和不刺激。 | ||
| 搜索关键词： | 壳聚糖 深层清洁 皮肤 面膜 重金属离子 芦荟 制备 愈合 氨基 多糖类物质 高分子物质 微生物体系 分子结构 含壳聚糖 面部疾患 皮肤创口 皮肤效果 日化用品 刺激 感染 成膜性 配合物 亲水性 真菌 捕集 成膜 原菌 免疫力 过敏 蛋白质 化妆品 破损 细菌 复合 生长 遗留 阻碍 | ||
【主权项】：
1.一种温和深层清洁面膜的制备方法，其特征在于具体步骤为：（1）按重量份数计，分别称取3～10份植物组合物、1～3份壳聚糖、0.1～0.2份柠檬酸、10～20份质量分数为10%的聚乙烯醇水溶液、60～80份去离子水、5～15份保湿剂、5～10份非离子表面活性剂、0.2～1份防腐剂，将去离子水、保湿剂、非离子表面活性剂、质量分数为10%的聚乙烯醇水溶液混合，高速均质分散后，得分散乳液，待分散乳液降至40～50℃时，加入植物组合物和壳聚糖，搅拌10～20min后，依次加入柠檬酸、防腐剂，继续搅拌20～30min，冷却至室温，即得所述的温和深层清洁面膜。
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