[发明专利]基于光学的指纹传感器、包含其的电子装置及其操作方法在审
申请号: | 201810765004.7 | 申请日: | 2018-07-12 |
公开(公告)号: | CN109255285A | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 李旼哲;李宽熙;郑大英;赵相贤;赵元虎;高夏永;李种星;黄熙创 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00;G06K9/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邵亚丽 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种基于光学的指纹传感器可以包含:第一光电二极管;第一金属屏蔽结构,其形成在第一光电二极管上并且包含第一开口的;第一色彩滤光器结构,其形成在第一金属屏蔽结构上并且包含暴露第一开口的第二开口;第二光电二极管,其与第一光电二极管以预定距离间隔开;第一纳米光学滤光器结构,其形成在所述第二光电二极管上;以及第一带限滤光器结构,其形成在纳米光学滤光器结构上。 | ||
搜索关键词: | 光电二极管 滤光器结构 金属屏蔽结构 指纹传感器 开口 纳米光学 色彩滤光器 电子装置 预定距离 暴露 | ||
【主权项】:
1.一种基于光学的指纹传感器,包括:第一光电二极管;第一金属屏蔽结构,其形成在所述第一光电二极管上并且包含第一开口;第一色彩滤光器结构,其形成在所述第一金属屏蔽结构上并且包含暴露所述第一开口的第二开口;第二光电二极管,其与所述第一光电二极管以预定距离间隔开;第一纳米光学滤光器结构,其形成在所述第二光电二极管上;以及第一带限滤光器结构,其形成在所述第一纳米光学滤光器结构上。
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