[发明专利]一种目标跟踪方法及装置有效

专利信息
申请号: 201810768738.0 申请日: 2018-07-13
公开(公告)号: CN109102522B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 魏振忠;闵玥;谈可;张广军 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G06T7/246 分类号: G06T7/246
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 杨学明;顾炜
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出一种目标跟踪方法及装置,该方法包括:在初始帧图像中,根据给定目标位置初始化所有滤波器;为当前帧图像候选框匹配滤波器进行响应计算。若存在响应峰值大于阈值,则据此确定目标位置;若不存在响应峰值大于阈值,则暂停滤波器更新,进入遮挡状态;根据上一帧目标包围框确定当前帧目标检测区域。根据检测高分框提取候选框,分别匹配滤波器并计算响应峰值,若检测得分和响应峰值均大于阈值则认为目标找回,否则仍为遮挡状态;连续多帧遮挡则将检测范围扩展到全图,直至重新找回目标。本方法在跟踪目标姿态变化,环境光照变化以及遮挡等情况均具有较强的多态适应性和鲁棒性,便于实现目标的全程跟踪和观测。
搜索关键词: 一种 目标 跟踪 方法 装置
【主权项】:
1.一种目标跟踪装置,其特征在于:该装置包括:可见光变焦成像系统,控制计算机,两轴伺服系统;其中,可见光变焦成像系统由工业相机和可见光变焦镜头两部分组成,工业相机拍摄目标图像,并通过转换传输系统将图像数据传输给控制计算机,可变光变焦镜头则根据跟踪计算机反馈结果控制镜头焦距,进而使得目标在拍摄图像中大小保持恒定;控制计算机利用跟踪算法确定当前图像中跟踪目标框的具体位置,根据目标跟踪框占图像比例的大小调节镜头焦距,并由跟踪算法给出的目标位置与视场中心点的偏差量来控制两轴伺服系统,即由目标中心距图像中心的偏移量,据此控制两轴伺服系统使目标保持在图像中心区域;两轴伺服系统主要由转台台体和电控箱两大部分组成,转台台体部分是系统的最终执行机构,采用立式U型结构形式,分别用来完成方位、俯仰两个方向的角运动,控制系统位于机械台体内部下方,用来安放两轴伺服系统的控制部分,其接受控制计算机的控制信号并实现对各框架的实时运动控制。
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