[发明专利]一种基于调控ZIF-8薄膜暴露晶面比例的方法有效
| 申请号： | 201810771292.7 | 申请日： | 2018-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN108892392B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 田守勤;刘秋芬;吴森伟 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C03C17/32 | 分类号： | C03C17/32;C08G83/00 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 唐万荣 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种基于调控ZIF‑8薄膜暴露晶面比例的方法，包含如下步骤：a、将Zn(OAc) |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 调控 zif 薄膜 暴露 比例 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于调控ZIF‑8薄膜暴露晶面比例的方法，其特征在于，包含如下步骤：a、将Zn(OAc)2·2H2O和2‑甲基咪唑混合溶解于溶剂中配制ZIF‑8溶胶；b、薄膜衬底的清洗；c、ZIF‑8溶胶在衬底上旋涂成膜；d、旋涂成膜后的样品的热处理。
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