[发明专利]一种去除并控制渗滤液中抗生素抗性基因和抗性菌的联合处理装置及方法在审
申请号: | 201810776001.3 | 申请日: | 2018-07-16 |
公开(公告)号: | CN109020055A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 谢冰;武冬;魏华炜 | 申请(专利权)人: | 华东师范大学 |
主分类号: | C02F9/14 | 分类号: | C02F9/14;C02F103/06 |
代理公司: | 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 | 代理人: | 董红曼 |
地址: | 200062 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种去除并控制渗滤液中抗生素抗性基因和抗性菌的联合处理方法,通过生物、物理、化学联合反应装置,削减实际填埋场渗滤液中的抗生素抗性基因和抗性菌的丰度,并控制其二次传播。使用本发明的技术方法能够实现对渗滤液中抗生素抗性基因和抗性菌的处理,去除率分别可达到约99%和80%以上。本发明联合处理方法技术成熟、可靠性高,对渗滤液中抗生素抗性基因和抗性菌的去除和扩散阻隔效果显著,对降低周边环境风险具有实际应用价值。本发明还公开了一种去除并控制渗滤液中抗生素抗性基因和抗性菌的联合装置。 | ||
搜索关键词: | 抗生素抗性基因 抗性菌 渗滤液 去除 联合处理 联合处理装置 反应装置 联合装置 周边环境 填埋场 丰度 阻隔 扩散 削减 成熟 传播 应用 联合 | ||
【主权项】:
1.一种去除并控制渗滤液中抗生素抗性基因和抗性菌的联合装置,其特征在于,包括:高浓度膜生物反应器(1)、超滤膜分离单元(2)、紫外杀菌辐射器(3)、基于二氧化钛的高级氧化反应器(4)、流量计(5)和泵(6);其中,所述高浓度膜生物反应器(1)、所述超滤膜分离单元(2)、所述紫外杀菌辐射器(3)、所述基于二氧化钛的高级氧化反应器(4)依次连通;所述高浓度膜生物反应器(1)和所述超滤膜分离单元(2)之间、所述超滤膜分离单元(2)和所述紫外杀菌辐射器(3)之间、及所述紫外杀菌辐射器(3)和所述基于二氧化钛的高级氧化反应器(4)之间均设置有所述流量计(5)和所述泵(6)。
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