[发明专利]电子照相感光体、处理盒及图像形成装置有效
申请号: | 201810781714.9 | 申请日: | 2018-07-17 |
公开(公告)号: | CN109298606B | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 大路喜一郎;清水智文 | 申请(专利权)人: | 京瓷办公信息系统株式会社 |
主分类号: | G03G5/05 | 分类号: | G03G5/05;G03G5/04;G03G5/06;G03G21/18 |
代理公司: | 北京航忱知识产权代理事务所(普通合伙) 11377 | 代理人: | 陈立航 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明提供电子照相感光体、处理盒及图像形成装置。电子照相感光体具备导电性基体和感光层。导电性基体包含铝或铝合金。感光层是单层的感光层。感光层包含电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂、粘结树脂及添加剂。添加剂包含羧酸酐。相对介电常数的变化值为1.00以上。相对介电常数的变化值通过如下获得,即,使感光层带电,并用波长780nm及曝光量1.2μJ/cm |
||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 处理 图像 形成 装置 | ||
【主权项】:
1.一种电子照相感光体,具备导电性基体和感光层,其特征在于,所述导电性基体含有铝或铝合金,所述感光层是单层的感光层,所述感光层含有电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂、粘结树脂及添加剂,所述添加剂包含羧酸酐,相对介电常数的变化值为1.00以上,所述相对介电常数的变化值通过如下获得,即,使所述感光层带电,并用波长780nm及曝光量1.2μJ/cm2的光照射带电了的所述感光层进行曝光,计算曝光区域中流入‑30μA以上‑10μA以下的电流时的若干个相对介电常数,求出相对介电常数的最大值与最小值之差,就是所述相对介电常数的变化值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷办公信息系统株式会社,未经京瓷办公信息系统株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810781714.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:像差校正系统、光刻机及像差校正方法
- 下一篇:一种碳粉的回收方法