[发明专利]一种新型光纤F-P腔传感器件的制备方法

摘要

一种新型光纤F‑P腔传感器件的制备方法，包括以下步骤；取一段光纤，剥掉涂覆层后得到一段裸光纤，用酒精清洗，用光纤切刀将裸光纤沿中间切断；将光纤固定在载玻片上，并将载玻片放在三维精密微位移台上，调节三维微位移平台使激光光斑聚焦位置与裸光纤端面重合，然后沿光纤轴向向外移动微位移平台使光斑聚焦位置距离裸光纤端面；调节准分子激光器的脉冲频率，打开准分子激光器，加压，关闭激光器，制作出的传感器；在距顶端处得到一个正方形的微孔，用氢氟酸溶液清洗孔内杂质，制成了一个关于压强、温度和液体折射率同时测量的传感器。本发明制作的传感器尖端结构强大、体积小、制造简单、成本较低，对温度、压强和折射率都有较好的测量精度。

主权项

1.一种新型光纤F‑P腔传感器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤；步骤一：取一段光纤，剥掉5cm的涂覆层后得到一段裸光纤，并用酒精清洗，用光纤切刀将裸光纤沿中间切断；步骤二：将剥掉5cm的涂覆层后得到一段裸光纤固定在载玻片上，并将载玻片放在三维微位移平台(11)上，启动准分子激光器(9)，并调节三维微位移平台(11)使激光光斑聚焦位置与裸光纤端面重合，然后沿光纤轴向向外移动微位移平台使光斑聚焦位置距离裸光纤端面500μm；步骤三：调节准分子激光器(9)的脉冲频率为50HZ，电压0.9KV，能量25mJ，打开准分子激光器(9)，每持续5s增加0.2KV电压，一直加到1.20KV后停止增加电压，关闭激光器，取下制作出传感器；步骤四：在距光纤顶端500μm处得到一个40.5μm×40.5μm的正方形的微孔，由于紫外激光在刻蚀光纤过程中会在孔内留下很多二氧化硅晶体杂质，用5％的氢氟酸溶液清洗孔内杂质，制成了一个关于压强、温度和液体折射率同时测量的传感器。