[发明专利]掩膜板及成膜方法有效
| 申请号： | 201810788659.6 | 申请日： | 2018-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN109423602B | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 三上瞬;中尾裕利;田宫慎太郎;朝比奈伸一 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 齐永红 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜板，其在通过磁铁阵列的吸引力将掩膜板紧密贴合在基板的下表面以使基板(Sw)夹隔在接触板(Tp)和掩膜板(MP)之间时，可尽量抑制在图案掩膜部(1)的透孔(11)周边的突起，并可防止已形成的薄膜上发生掩膜失效。本发明的掩膜板(MP)具有：图案掩膜部(1)，其由以规定的图案开设并贯通板厚度方向的多个透孔(11)构成；以及遮挡部(2)，其位于图案掩膜部的周围。至少在磁铁的并列设置方向上与图案掩膜部相邻的遮挡部的部分(21)形成为与图案掩膜部的磁导率相同。 | ||
| 搜索关键词： | 图案掩膜 掩膜板 基板 透孔 遮挡 并列设置 磁铁阵列 紧密贴合 磁导率 贯通板 接触板 下表面 磁铁 突起 成膜 掩膜 薄膜 图案 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，其特征在于，具有：图案掩膜部，其由以规定的图案开设并贯通板厚度方向的多个透孔构成；以及遮挡部，其位于图案掩膜部的周围；所述掩膜板与基板的一侧的面紧密贴合或靠近配置，限定对基板的处理范围；以从掩膜板朝向基板的方向为上，在基板上间隔接触板配置磁铁阵列，所述磁铁阵列由在上下方向上磁化的多个磁铁并列设置而构成，且彼此相邻的该磁铁的下侧的磁极不同，由此通过磁铁阵列的吸引力使所述掩膜板紧密贴合在基板的下表面以使基板夹隔在接触板和掩膜板之间；至少在磁铁的并列设置方向上与图案掩膜部相邻的遮挡部的部分形成为与图案掩膜部的磁导率相同；在所述遮挡部的部分上以规定的图案形成贯穿板厚度方向的多个贯通孔，向该贯通孔中充填非磁性材料。
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