[发明专利]用于化学机械抛光的浆液组合物在审
| 申请号： | 201810790107.9 | 申请日： | 2014-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN109054648A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 李锡浩;宋定桓;全成植 | 申请（专利权）人： | LTCAM有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04 |
| 代理公司： | 北京天驰君泰律师事务所 11592 | 代理人： | 孟锐 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文揭示一种浆液组合物。所述浆液组合物包括0.1wt％到10wt％的磨料、0.01wt％到1wt％的异噻唑分散稳定剂、0.01wt％到1wt％的苯羧酸腐蚀抑制剂、0.01wt％到15wt％的氨基酸螯合剂和0.01wt％到1wt％的由丙烯酰胺和氨基甲基丙醇组成的络合剂。所述浆液组合物与典型抛光用浆液相比能够使高速CMP工艺下的凹陷和侵蚀现象最少，同时维持稳定的Cu移除速率且使Cu与Ta之间的选择性移除速率最大，由此不会在待抛光的表面上提供缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 浆液组合物 抛光 磨料 氨基甲基丙醇 氨基酸螯合剂 化学机械抛光 凹陷和侵蚀 分散稳定剂 腐蚀抑制剂 选择性移除 丙烯酰胺 维持稳定 苯羧酸 络合剂 异噻唑 移除 | ||
【主权项】：
1.一种浆液组合物，其包含：0.1wt％到10wt％的磨料，0.01wt％到1wt％的异噻唑分散稳定剂，0.5wt％到1wt％的腐蚀抑制剂，0.01wt％到15wt％的氨基酸螯合剂，以及0.01wt％到1wt％的由丙烯酰胺和氨基甲基丙醇组成的络合剂，其中所述腐蚀抑制剂为1,2,3,4‑丁烷四甲酸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LTCAM有限公司，未经LTCAM有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810790107.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种石头漆及其制备方法
- 下一篇：一种具有抗菌性的高稳定抛光液及其制备方法
