[发明专利]一种加热型氢化硅薄膜滤光片在审
| 申请号： | 201810791461.3 | 申请日： | 2018-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN110737041A | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | 吴砺;张建英;林磊;苏炎;刘哲;于光龙 | 申请（专利权）人： | 福州高意光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28 |
| 代理公司： | 35211 福州君诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戴雨君 |
| 地址： | 350000 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种加热型氢化硅薄膜滤光片，其包括基片、加热膜层和标准具腔体，标准具腔体和加热膜层从上至下依次设置在基片的上端面，所述标准具腔体的顶部和底部分别具有高反膜系，高反膜系由多个高折射率膜层和多个低折射率膜层交替堆叠而成，所述标准具腔体的材料为SiH。本发明中的标准具腔体采用SiH材料替换α‑Si，由于SiH材料的热光系数比α‑Si大，可以补充800nm‑1100nm波段的透过，将现有透过波长范围扩大至800nm‑4000nm。 | ||
| 搜索关键词： | 标准具 腔体 加热膜层 高反膜 低折射率膜层 高折射率膜层 氢化硅薄膜 从上至下 范围扩大 交替堆叠 热光系数 依次设置 加热型 滤光片 上端面 波长 波段 替换 补充 | ||
【主权项】：
1.一种加热型氢化硅薄膜滤光片，其特征在于：其包括基片、加热膜层和标准具腔体，标准具腔体和加热膜层从上至下依次设置在基片的上端面，所述标准具腔体的顶部和底部分别具有高反膜系，高反膜系由多个高折射率膜层和多个低折射率膜层交替堆叠而成，所述标准具腔体的材料为SiH。/n
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