[发明专利]用于调节离子阱中的离子群体以用于MSn 有效
| 申请号： | 201810797099.0 | 申请日： | 2018-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN109285757B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | J·C·施瓦茨;李林繁 | 申请（专利权）人： | 萨默费尼根有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/00 | 分类号： | H01J49/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈洁;姬利永 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种质谱分析设备包含离子源、离子阱和质谱仪控制器。所述离子源被配置成产生离子。所述离子阱被配置成：俘获RF场内的离子；排出不需要的离子，同时保留目标离子；以及使目标离子碎裂。所述质谱仪控制器被配置成：基于前体离子流和产物离子流来确定所述离子阱的注入时间；用来自所述离子源的离子来填充所述离子阱达等于所述注入时间的时间量；隔离所述离子阱中的目标前体离子；使所述目标前体离子碎裂以产生产物离子；以及对所述产物离子进行质量分析。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 调节 离子 中的 群体 ms base sup | ||
【主权项】：
1.一种质谱分析设备，包括：离子源，其被配置成产生离子；离子阱，其被配置成：俘获RF场内的离子；排出不需要的离子，同时保留目标离子；以及使目标离子碎裂；质谱仪控制器，其被配置成：基于前体离子流和产物离子流来确定所述离子阱的注入时间；用来自所述离子源的离子来填充所述离子阱达等于所述注入时间的时间量；隔离所述离子阱中的目标前体离子；使所述目标前体离子碎裂以产生产物离子；以及对所述产物离子进行质量分析。
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