[发明专利]一种酞菁薄膜的制备方法及酞菁薄膜在审

专利信息
申请号: 201810798839.2 申请日: 2018-07-19
公开(公告)号: CN108912129A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 王春锐;王挺峰;邵俊峰 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: C07D487/22 分类号: C07D487/22
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 曹卫良
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明涉及材料科学技术领域,具体公开一种酞菁薄膜的制备方法及酞菁薄膜。本发明的酞菁薄膜的制备方法包括步骤:S1、将酞菁原料溶于有机溶剂中,形成酞菁溶液;S2、将S1中得到的酞菁溶液滴加在绝缘衬底上,在旋涂仪器上旋转,进行旋涂;S3、在旋涂过程中,实时补加酞菁溶液的液滴到绝缘衬底上;S4、将补加了酞菁溶液的绝缘衬底加热,得到所述酞菁薄膜。本发明的制备方法设备简单,操作方便,所需时间短,制得的酞菁薄膜质量好,具有较好的形貌及平整的表面,形成交联的微结构。
搜索关键词: 酞菁 薄膜 制备 旋涂 绝缘 补加 衬底 材料科学技术 形貌 衬底加热 有机溶剂 溶液滴 微结构 交联 液滴 平整
【主权项】:
1.一种酞菁薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括步骤:S1、将酞菁原料溶于有机溶剂中,形成酞菁溶液;S2、将S1中得到的酞菁溶液滴加在绝缘衬底上,在旋涂仪器上旋转,进行旋涂;S3、在旋涂过程中,实时补加酞菁溶液的液滴到绝缘衬底上;S4、将补加了酞菁溶液的绝缘衬底加热,得到所述酞菁薄膜。
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