[发明专利]线圈机构及磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201810805217.8 | 申请日： | 2018-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN108611616B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 周慧蓉;张迅;郑芳平;张伯伦;易伟华 | 申请（专利权）人： | 江西沃格光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 石佩 |
| 地址： | 338004 江西省新余*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种线圈机构及磁控溅射装置。其中，线圈机构设于磁控溅射装置内的靶材的背面，以为磁控溅射装置提供磁场环境，其特征在于，所述线圈机构包括第一线圈单元，所述第一线圈单元包括由导电线构成的环形结构以及由导线构成的条形结构，所述条形结构位于所述环形结构内，在通电状态下，所述环形结构靠近所述靶材的一侧与所述条形结构靠近所述靶材的一侧磁极相反。上述线圈机构及磁控溅射装置，在镀膜过程中，通过调整线圈机构通入的直流电流的大小来改变磁场强度，以调整溅射速率，避免了靶材打火。 | ||
| 搜索关键词： | 线圈 机构 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种线圈机构，设于磁控溅射装置内的靶材的背面，以为磁控溅射装置提供磁场环境，其特征在于，所述线圈机构包括第一线圈单元，所述第一线圈单元包括由导电线构成的环形结构以及由导线构成的条形结构，所述条形结构位于所述环形结构内，在通电状态下，所述环形结构靠近所述靶材的一侧与所述条形结构靠近所述靶材的一侧磁极相反。
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