[发明专利]用以提高解析度的成像位移模组及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810805749.1 申请日: 2018-07-20
公开(公告)号: CN110737101B 公开(公告)日: 2023-01-31
发明(设计)人: 陈明驰;许雅伶 申请(专利权)人: 扬明光学股份有限公司
主分类号: G02B27/42 分类号: G02B27/42;G02B27/44;G02B7/00
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种成像位移模组,包括可在绕射状态和非绕射状态切换的第一光栅及第二光栅。第一光栅设有相对应的第一表面和第二表面,第一表面接收一影像光,且影像光从第二表面出射。第二光栅设有相对应的第三表面和第四表面,第三表面接收影像光,且影像光从第四表面出射。影像光入射至第一光栅的入射方向与由第二光栅出射的出射方向平移一距离。
搜索关键词: 用以 提高 解析度 成像 位移 模组 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种成像位移模组,包括:/n一可在绕射状态和非绕射状态切换的第一光栅,设有相对应的一第一表面和一第二表面,所述第一表面接收一影像光,且所述影像光从所述第二表面出射;以及/n一可在绕射状态和非绕射状态切换的第二光栅,位于所述第一光栅的光路下游,设有相对应的一第三表面和一第四表面,所述第三表面接收所述影像光,且所述影像光从所述第四表面出射,其中所述影像光入射至所述第一光栅的入射方向与由所述第二光栅出射的出射方向在一第一方向实质平移一距离。/n
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