[发明专利]光波模式转换装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810810996.0 申请日: 2018-07-23
公开(公告)号: CN110749955A 公开(公告)日: 2020-02-04
发明(设计)人: 王庆;方青;汪巍;涂芝娟;曾友宏;蔡艳;王书晓;余明斌 申请(专利权)人: 上海新微技术研发中心有限公司
主分类号: G02B6/14 分类号: G02B6/14;G02B6/13
代理公司: 31294 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 孙佳胤;陈丽丽
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种光波模式转换装置及其制造方法。所述光波模式转换装置,包括同层设置的第一波导和第二波导,且所述第一波导的折射率大于所述第二波导;所述第二波导朝向所述第一波导的端部具有开口,所述开口的直径沿所述第二波导指向所述第一波导的方向逐渐增大,且所述第一波导的光耦合端面与所述开口对齐设置。本发明不仅降低了光学器件的工艺复杂度,而且提高了两种波导之间的耦合效率,实现了两种波导之间的低损耗互连。
搜索关键词: 波导 开口 光波模式 转换装置 半导体技术领域 工艺复杂度 光耦合端面 对齐设置 光学器件 同层设置 逐渐增大 耦合效率 低损耗 折射率 互连 指向 制造
【主权项】:
1.一种光波模式转换装置,其特征在于,包括同层设置的第一波导和第二波导,且所述第一波导的折射率大于所述第二波导;所述第二波导朝向所述第一波导的端部具有开口,所述开口的宽度沿所述第二波导指向所述第一波导的方向逐渐增大,且所述第一波导的光耦合端面与所述开口对齐设置。/n
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