[发明专利]化学气相沉积系统在审
| 申请号： | 201810815730.5 | 申请日： | 2018-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN109306471A | 公开（公告）日： | 2019-02-05 |
| 发明（设计）人： | 卢柏菁;黄冠宁 | 申请（专利权）人： | 汉民科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾台北巿大*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 在一实施例，一种化学气相沉积系统包含承载盘、多个晶圆承载器，以及制造过程气体。该承载盘绕着中心轴旋转。多个晶圆承载器位于该承载盘，每个晶圆承载器承载晶圆。该晶圆的周边具有倒角，每个晶圆承载器具有延伸结构，该延伸结构具有水平的底面以及倾斜的承载面，该承载面用以承载该倒角。制造过程气体靠近该晶圆的磊晶面，经加热反应形成薄膜沉积在该磊晶面上。 | ||
| 搜索关键词： | 晶圆承载器 晶圆 化学气相沉积系统 延伸结构 制造过程 承载面 承载盘 承载 倒角 磊晶 薄膜沉积 加热反应 中心轴 盘绕 底面 | ||
【主权项】：
1.一种化学气相沉积系统，其特征在于包含：承载盘，绕着中心轴旋转；多个晶圆承载器，位于该承载盘，每个该晶圆承载器承载晶圆，该晶圆的周边具有倒角，每个该晶圆承载器具有朝该晶圆方向延伸的延伸结构，该延伸结构具有水平的底面以及倾斜的承载面，该承载面用以承载该倒角；制造过程气体，靠近该晶圆的磊晶面，经加热反应形成薄膜沉积在该磊晶面上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
