[发明专利]边缘曝光工具以及边缘曝光方法在审
| 申请号： | 201810819829.2 | 申请日： | 2018-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN109557766A | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 王英豪;钟嘉麒;钟含智;林裕翔;林育贤;吴育恒;许瀚文 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本申请的各种实施例涉及具有发光二极管(LED)的边缘曝光工具以及使用LED的边缘曝光的方法。在一些实施例中，边缘曝光工具包括工艺室、工件台、LED和控制器。工件台位于工艺室中并且被配置为支撑被感光层覆盖的工件。LED位于工艺室内并且被配置为朝向工件发射辐射。控制器被配置为控制LED以将感光层的边缘部分，而不是感光层的中心部分暴露于由LED发射的辐射。感光层的边缘部分沿着工件的边缘以闭合路径延伸以封闭感光层的中心部分。 | ||
| 搜索关键词： | 感光层 曝光工具 控制器 工件台 工艺室 配置 发光二极管 闭合路径 发射辐射 曝光 室内 发射 辐射 暴露 封闭 延伸 覆盖 支撑 申请 | ||
【主权项】：
1.一种用于边缘曝光的方法，所述方法包括：接收被感光层覆盖的工件；以及将所述感光层的边缘部分而不是所述感光层的中心部分暴露于由发光二极管(LED)产生的辐射，其中，所述感光层的边缘部分沿着所述工件的边缘以闭合路径延伸以封闭所述感光层的中心部分。
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