[发明专利]一种三维自对准微孔阵列高通滤膜及其制作方法有效
申请号: | 201810820410.9 | 申请日: | 2018-07-24 |
公开(公告)号: | CN108905640B | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 石剑;陈勇;刘瑞;汪莉 | 申请(专利权)人: | 广州安方生物科技有限公司 |
主分类号: | B01D67/00 | 分类号: | B01D67/00;B01D69/02 |
代理公司: | 广州凯东知识产权代理有限公司 44259 | 代理人: | 姚迎新 |
地址: | 510000 广东省广州市广州国际生物岛寰宇三*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种三维自对准微孔阵列高通滤膜及其制作方法,滤膜分为操作区和过滤区,操作区位于滤膜四周,过滤区位于滤膜中间,过滤区相对操作区凹陷,过滤区上设置三维自对准微孔,三维自对准微孔由上层孔和下层孔构成,上层孔和下层孔为同轴孔,上层孔为圆柱形孔,上层孔的孔径小于下层孔,上层孔与下层孔连通,下层孔为圆柱形孔或者为孔径至上而下逐渐变大的渐变形孔。本发明一方面通过减小上层孔厚度和增大下层孔孔径来增加流体通量,另一方面通过下层孔增加滤膜的机械强度。本发明滤膜的制作方法结合了光刻技术、软光刻复制技术、压印技术和膜转移技术,此方法简便、快速,适用于不同材质微孔滤膜的制作和不同领域的应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 三维 对准 微孔 阵列 滤膜 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种三维自对准微孔阵列高通滤膜,其特征在于:滤膜分为操作区和过滤区,操作区位于滤膜四周,过滤区位于滤膜中间,过滤区相对操作区凹陷,过滤区上设置三维自对准微孔,三维自对准微孔由上层孔和下层孔构成,上层孔和下层孔为同轴孔,上层孔为圆柱形孔,上层孔的孔径小于下层孔,上层孔与下层孔连通,流体依次流经上层孔和下层孔,下层孔为圆柱形孔或者为孔径至上而下逐渐变大的渐变形孔。
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